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半导体自主可控产业链: 1,半导体材料 硅晶圆 光刻胶 靶材 2,封装材料 基板 键合丝 粘结材料 3,半导体前道设备 光刻机 蚀刻机 薄膜沉积设备 离子注入机 4,半导体后道设备 引线健合机 塑封设备 检测设备
「英飞凌推出世界上最薄的300毫米功率硅晶圆」[微风]英飞凌科技公司(Infineon Technologies AG)继宣布推出全球首块 300 毫米氮化镓(GaN)功率晶圆和在马来西亚库林(Kulim)建成全球最大的 200 毫米碳化硅(SiC)功率晶圆厂之后,又揭开了半导体制造技术的新篇章。 其在处理和加工有史以来最薄的硅功率晶圆方面取得了突破性进展,这种晶圆的厚度仅为 20微米,直径为 300 毫米。 [照相机]为了克服将晶圆厚度降低到 20 微米的技术障碍,英飞凌的工程师们必须建立一种创新而独特的晶圆研磨方法,因为将芯片固定在晶圆上的金属叠层厚度超过 20 微米。 这极大地影响了薄晶圆背面的处理和加工。 此外,与技术和生产相关的挑战,如晶圆弓形和晶圆分离,对确保晶圆稳定性和一流坚固性的后端装配工艺也有重大影响。 20 微米薄晶圆工艺以英飞凌现有的制造技术为基础,确保新技术能够无缝集成到现有的大批量 Si 生产线中,而不会产生额外的制造复杂性,从而保证尽可能高的产量和供应安全性。 [纸飞机]英飞凌的集成智能功率级(DC-DC 转换器)已通过鉴定并应用了该技术,并已交付给首批客户。 作为与 20 微米晶圆技术相关的强大专利组合的持有者,该技术彰显了英飞凌在半导体制造领域的创新领导地位。 随着目前超薄晶圆技术的加速发展,英飞凌预计在未来三到四年内,低压电源转换器将取代现有的传统晶圆技术。 [棒棒糖]英飞凌将于11月12日至15日在慕尼黑举办的electronica 2024展会(C3展厅,502展台)上公开展示首款超薄硅晶片。
【「中美晶、环球晶9月营收探5个月来低点Q3齐增长」】 中美晶及子公司环球晶9月营收同步滑落,创5个月来新低;不过第三季营收皆较第二季增长,分别季增1.15%及3.55%。「中美晶」表示,目前已多角化布局半导体、汽车组件、再生能源、特殊气体与化合物材料等领域,未来将集成集团资源,创造更大综效。「环球晶」表示,今年来运营逐季攀高,随着客户持续去化库存,终端应用市场出货有望增长,半导体硅晶圆用量有望提升,预期2025年市况将优于今年。中美晶、环球晶9月营收探5个月来低点,Q3齐增长
直观感受一下芯片的制造难度之一 ##一粒沙的芯片之旅:解码微观世界的奇迹 你是否想过,我们习以为常的电子设备,其核心——芯片,是如何从一粒粒不起眼的沙子变成的呢?这其中蕴藏着人类智慧的结晶,也挑战着我们对微观世界的认知。让我们一起踏上一段奇妙的芯片旅程,领略科技进步背后的艰辛与魅力。 旅程的第一站,是从平凡的沙滩到高纯度硅的蜕变。沙子,随处可见,看似平凡无奇,却是制造芯片的关键原料。天然的沙子纯度远远不够,需要经过一系列复杂的提纯工艺,才能得到半导体工业所需的“电子级硅”。这就像是从沙砾中淘金,需要耐心和精湛的技术,才能最终提炼出闪耀的金子。 得到高纯度硅后,还需要将其制成晶圆,这是芯片制造的基石。想象一下,一块晶莹剔透的巨大“披萨”,这就是硅晶圆。它需要具备极高的平整度和纯净度,才能满足后续工艺的要求。这就好比建造摩天大楼的地基,必须坚实稳固,才能支撑起整座建筑的宏伟。 接下来,就进入了芯片制造最核心的环节——光刻。如果说硅晶圆是画布,那么光刻机就是一支神奇的画笔,用紫外线在纳米级的尺度上描绘出芯片的电路图。这支“画笔”的精度之高,令人叹为观止。打个比方,如果把芯片比作一座城市,那么光刻机就是在头发丝上雕刻出一座座精密的城市模型。 光刻完成后,还需要进行蚀刻,就像雕刻家精雕细琢作品一样,将多余的部分去除,留下所需的电路图案。这需要精确控制蚀刻的时间、深度和形状,才能保证芯片的性能和良率。这就好比在微观世界里进行外科手术,需要医生具备高超的技术和稳定的心态。 为了赋予芯片不同的功能,还需要进行离子注入。这就好比给芯片注入“灵魂”,让它能够按照预设的程序工作。离子注入需要精确控制离子的种类、数量和能量,才能保证芯片的性能和稳定性。这就好比在微观世界里进行精准的化学反应,需要科学家们对各种元素的性质了如指掌。 芯片的“血管”——金属线路,则需要通过金属化工艺来实现。这就好比在微观世界里铺设纵横交错的公路网,将芯片的各个部分连接起来,让电流能够畅通无阻地流动。 还需要将芯片封装起来,保护它免受外界环境的侵害,并提供与外部电路连接的接口。这就好比给芯片穿上“防护服”,让它能够在各种恶劣的环境下正常工作。 至此,一颗芯片才算最终完成,它凝聚了无数科技工作者的智慧和汗水,也承载着人类对科技进步的美好期待。 这只是芯片制造漫长旅程的一个缩影,每一个环节都充满了挑战,需要克服无数的技术难题。正是凭借着人类对未知的不懈探索和追求,才创造了芯片技术的一次又一次突破,也推动着人类社会不断向前发展。 从一粒沙到一枚芯片,这其中的每一步都充满了奇迹,也让我们对微观世界的奥秘有了更深的理解。芯片技术的发展,不仅改变了我们的生活方式,也为人类未来的发展提供了无限可能。 素材来自网络,如有侵权请及时联系删除。 #热点引擎计划# #我要上热门# #社会热点#
芯闻资讯|制造芯片的关键石英矿恢复生产,此前遭受飓风海伦破坏 矽比科(Sibelco)是北卡罗来纳州Spruce Pine地区开采超高纯度石英的两家公司之一,在飓风海伦袭击该地区十多天后,该公司已恢复生产。根据其新闻稿,Sibelco仅遭受轻微损失,所有员工都安全无虞。随着该公司恢复向客户发货并将产量提高到满负荷,制造半导体硅基所需的纯石英供应不会出现问题。 飓风海伦是一场四级飓风,严重影响了Spruce Pine地区,因此有人担心它会破坏制造硅锭所需的且价格合理的石英供应。这些硅锭被切成薄片并抛光,然后蚀刻成在计算机上看到的芯片。不过,不能随便将超纯硅熔化在任何容器中来制造芯片所需的硅锭。容器中的杂质可能会与熔融的硅发生反应,因此需要一个同样纯净的石英坩埚来盛放它。 大多数芯片制造商及其供应商都有足够的硅晶圆或硅锭来抵御供应链中断,因此许多人并不认为这场悲剧会对行业产生重大影响。此外,全球还有其他石英来源,尽管它们可能不像北卡罗来纳州矿山供应的那样容易获得和价格合适。 尽管如此,Sibelco的生产重启对整个行业来说都是好消息。这揭示了全球半导体供应链在重大区域事件面前有多么脆弱。
【玻璃——先进封装的大机会】 大摩分析指出,玻璃面板作为芯片载体或中介层,相较于硅晶圆可以实现更高成本效率、降低信号衰减、减少翘曲问题,预计估扇出型面板级封装市场将以37%的复合年增长率增长,到2028年将达到2.52亿美元。网页链接
今年第二季度全球硅晶圆出货量环比增长7.1%至30.35亿平方英寸,半导体行业icon 海光信息icon 龙芯中科icon 国民技术icon 寒武纪 中芯国际icon等「股票超话」
英飞凌推出全球最薄硅功率晶圆,突破技术极限并提高能效 - 英飞凌是首家掌握20超薄功率半导体晶圆处理和加工技术的公司 - 通过降低晶圆厚度将基板电阻减半,进而将功率损耗减少15% 以上 - 新技术可用于各种应用,包括英飞凌的AI赋能路线图 - 超薄晶圆技术已获认可并向客户发布 继宣布推出全球首款300mm氮化镓(GaN)功率半导体晶圆和在马来西亚居林建成全球最大的200mm碳化硅(SiC)功率半导体晶圆厂之后,英飞凌科技股份公司再次在半导体制造技术领域取得新的里程碑。英飞凌在处理和加工史上最薄的硅功率晶圆方面取得了突破性进展,这种晶圆直径为300㎜,厚度为20。厚度仅有头发丝的四分之一,是目前最先进的40-60晶圆厚度的一半。 英飞凌科技首席执行官Jochen Hanebeck表示:“这款全球最薄的硅晶圆展现了我们致力于通过推动功率半导体技术的发展,为客户创造非凡的价值。英飞凌在超薄晶圆技术方面的突破标志着我们在节能功率解决方案领域迈出了重要一步,并且有助于我们充分发挥全球低碳化和数字化趋势的潜力。凭借这项技术突破,英飞凌掌握了Si、SiC和GaN这三种半导体材料,巩固了我们在行业创新方面的领先优势。” 这项创新将有助于大幅提高功率转换解决方案的能效、功率密度和可靠性,适用于AI数据中心,以及消费、电机控制和计算应用。与基于传统硅晶圆的解决方案相比,晶圆厚度减半可将基板电阻降低 50%,从而使功率系统中的功率损耗减少15%以上。对于高端AI服务器应用来说,电流增大会推动能源需求上升,因此,将电压从 230 V 降低到 1.8 V 以下的处理器电压,对于功率转换来说尤为重要。超薄晶圆技术大大促进了基于垂直沟槽 MOSFET 技术的垂直功率传输设计。这种设计实现了与AI芯片处理器的高度紧密连接,在减少功率损耗的同时,提高了整体效率。 英飞凌科技电源与传感系统事业部总裁Adam White表示:“新型超薄晶圆技术推动了我们以最节能的方式为从电网到核心的不同类型的AI服务器配置提供动力的雄心。随着AI数据中心的能源需求大幅上升,能效变得日益重要。这给英飞凌带来了快速发展的机遇。基于中双位数的增长率,预计我们的AI业务收入在未来两年内将达到10亿欧元。” 由于将芯片固定在晶圆上的金属叠层厚度大于20,因此为了克服将晶圆厚度降低至20的技术障碍,英飞凌的工程师们必须建立一种创新而独特的晶圆研磨方法。这极大地影响了薄晶圆背面的处理和加工。此外,与技术和生产相关的挑战,如晶圆翘曲度和晶圆分离,对确保晶圆稳定性和一流稳健性的后端装配工艺也有重大影响。20薄晶圆工艺以英飞凌现有的制造技术为基础,确保新技术能够无缝集成到现有的大批量Si生产线中,而不会产生额外的制造复杂性,从而保证尽可能高的产量和供应安全性。 该技术已获得认可,并被应用于英飞凌的集成智能功率级(直流-直流转换器)中,且已交付给首批客户。同时,该技术还拥有与 20 晶圆技术相关的强大专利组合,体现了英飞凌在半导体制造领域的创新领先优势。随着目前超薄晶圆技术的发展,英飞凌预测在未来三到四年内,现有的传统晶圆技术将被用于低压功率转换器的替代技术所取代。这项突破进一步巩固了英飞凌在市场上的独特地位。英飞凌目前拥有全面的产品和技术组合,覆盖了基于Si、SiC和GaN的器件,这些器件是推动低碳化和数字化的关键因素。 11月12-15日,英飞凌将在2024年慕尼黑国际电子元器件博览会(C3展厅502号展台)上公开展示首款超薄硅晶圆。
光刻机的第三个技术难点,是对准。芯片不是一次曝光就可以完成的,而是必须更换不同的掩膜,进行多次曝光。就好像用单色印刷机印彩色图纸,要用四种不同的颜色,在同一张纸上印刷四遍。在这个过程中,如果下一道印刷没有完全对准上一道的图案,就会出现重影,图像就废了。 光刻机也是这个道理。别忘了前面说的,芯片的每个元器件之间只允许有几纳米的间隔。这就意味着,掩膜和硅晶圆每次对准的误差,也必须控制在纳米级别。更何况,一个硅晶圆有生日蛋糕那么大,而每次曝光的区域只有一块橡皮擦那么大。曝光完一个区域之后,放置硅晶圆的曝光台必须快速移动,接着曝光下一个区域。要在快速移动中实现纳米级的对准,这个难度就相当于,你要从眨眼之间,端着一盘菜从北京天安门冲到上海外滩,恰好踩到预定的脚印上,菜还保持端平不能洒。#热点引擎计划#
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